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    GaN单晶衬底研磨抛光装备及工艺关键技术研究

    发布日期: 2021-10-28 17:32:41 文章出处:科研成果发布 浏览次数:

北京大学东莞光电研究院2021年10月获得“GaN单晶衬底研磨抛光装备及工艺关键技术研究”科技成果登记证书(证书登记号:粤科成登(1)字[2021]0779号 ),该项成果来源于2015广东省科技计划(项目编号:2016B090918003)。

项目研究了GaN单晶衬底材料制备技术、GaN的研磨抛光处理工艺以及相应的研磨抛光设备,完成了对分离自支撑衬底进行表面处理实现高质量同质外延,实现GaN材料研磨抛光中产生的表面下损伤的控制,自主研发了高精度脆性材料专用研磨设备,所研发产品得到推广应用。

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